薄膜堆積成長速度監視システムは、損失のないレーザー技術を用いて薄膜堆積速度、薄膜厚さ及び光学定数（n&k）をリアルタイムでその場検出し、金属有機化学気象堆積MOCVD、分子ビームエピタクシーMBE、スパッタリングシステムSputering及び蒸発システムなどの薄膜堆積過程のリアルタイムその場監視に広く応用できる。

主な特徴：

*リアルタイムフィルム堆積速度、フィルム厚さ及び光学定数（n&k）分析、同時に標準偏差統計分析、

*自動プログラム化キャリブレーション、

*精密なリアルタイムフィードバックシステム、

*プログラム制御、リアルタイム多層薄膜堆積の監視と制御が可能、

*マルチWaferモニタ機能、

＊Waferベース回転監視と制御機能、

*すべてのパラメトリックのその場でのリアルタイム検出、

*操作組み立てが簡単で便利、